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离子镀膜工艺及其参数

来源:www.bllvac.com发表时间:2017-03-03

   离子镀要获得符合性能所要求的薄膜,就必须使沉积的薄膜具有合适的成分和组织结构及其膜-基结合力。可以利用前述的离子轰击效应对成膜过程各环节的有利影响来实现。离子镀影响成膜的主要因素是到达基片的各种粒子(包括膜材原子和离子、工作气体的原子和离子、反应气体的原子和离子)的能量、通量和各通量的比例。此外,还有基片的表面状态和温度。实施的手段关键是调控粒子的等离子体浓度和能量以及基片温升。不同的离子镀技术和设备产生和调控等离子体的机制是有所不同的。影响成膜工艺参数主要有:镀膜室的气体压力、反应气体的分压、蒸发源功率、蒸发速率、蒸发源和基片间的距离、沉积速率、基体的负偏压和基体温度。

  

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